pvd真空镀膜能直接镀在不锈钢，钛、钨钢等材质上，但是对铁、锌合金、铜等压铸件真空镀膜前应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。

PVD镀膜技术是一种真正能够获得微米级镀层，而且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。